Поток процесса ultrapure оборудования воды для чистки полупроводника

В последние годы, развитие науки и техники Китая быстрое, электронная промышленность определяет основную часть, в электронной промышленности, полупроводники также занимает важное положение, полупроводник очищая качество ultrapure оборудования воды выходящее стабилизирован и деятельность оборудования надежна.

Описание процесса ultrapure оборудования воды для чистки полупроводника

Качество воды ultrapure воды для чистки полупроводника должно также иметь строгие требования, и оборудование может работать стабилизированно. Сырая вода надута водяной помпой сырой воды, так, что вода войдет в первичную систему pretreatment для того чтобы извлечь ржавчину и другие органические вещества в воде, тогда входит во вторичное оборудование pretreatment для того чтобы извлечь некоторый цвет остаточного хлора, и после этого после третьей ступени pretreatment, извлечь твердость воды, фильтр безопасностью очищает воду снова, и после этого проходит обратный осмоз и EDI для того чтобы извлечь сверхнормальные примеси в воде, и в конце концов пропуски через microporous фильтр дальше для того чтобы обработать воду. Сделайте воду соотвествуйте воды.

Стандарт для ultrapure воды в индустрии полупроводника

Индустрия полупроводника должна следовать уместными стандартами электронной промышленности Китая, и также соотвествовать некоторыми чужими стандартами качества воды. В настоящее время, много изготовителей водоочистки не сумели соотвествовать, и выходящее качество нашего ultrapure оборудования воды может соотвествовать эти, и качество воды стабилизировано, и оно не причинит вторичное загрязнение.

Ultrapure оборудование воды для чистки полупроводника принимает самую последнюю технологию, которая может осуществить характеристики бесхозного, оборудование занимает небольшую область, степень автоматизации высока, и качество воды стабилизировано, до 18,2 триллионов, и скорость восстановления отработанной воды ultrapure оборудования воды высока, до 80% к больше чем 90%.